HL係列多弧離子真空鍍膜機

日期:2016/1/13 10:01:54 人氣:3369
HL係列多弧離子真空鍍膜機

工作原理

HL係列多弧離子真空鍍膜機工作原理是把真空弧光放電技術用於蒸發源的技術,即在真空環境下引燃蒸發源(陰極),與陽極之間形成自持弧光放電,既從陰極弧光輝點放出陰極物質的離子。由於電流局部的集中,產生的焦耳熱使陰極材料局部的爆發性地等離子化,在工件偏壓的作用下與反應氣體化合,而沉積在工件表麵上形成被鍍的膜層。

應用範圍

1、鍾表行業(表帶、表殼、表盤等)
2、五金行業(衛生潔具、門把手、拉手、門鎖等)
3、建築行業(不鏽鋼板、樓梯扶手、立柱等)
4、精密模具業(衝棒標準件模具、成型模具等)
5、工具行業(鑽頭、硬質合金、銑刀、拉刀、刀頭)
6、汽車工業(活塞、活塞環、合金輪轂等)以及鋼筆、眼鏡等等,使其表麵得到既美觀又耐磨的功能性磨層。主要鍍製的膜層有:離子金、離子銀、氮化鈦膜、碳化鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜、氮化鉻以及RP鍍等超硬功能性金屬膜,經離子鍍膜加工後的工件,可以提高硬度、耐磨度,抗腐蝕和美化的作用。 
7、有色金屬製品(如銅、鋁、鋅、鎂等)不需水鍍直接鍍製膜層。

產品特點

1、裝備低溫離子輔助源,無需加熱直接常溫冷鍍成膜,節能省電,提高產能。
2、沉積速率高,鍍膜速度快,覆蓋領域廣,可以在多種產品上鍍製各類裝飾膜或功能膜,是中、高端產品大量生產的最佳設備。

技術參數表

HL係列多弧離子真空鍍膜機     
型號HL-600HL-800HL-1000HL-1200HL-1400HL-1500HL-1600
真空室尺寸 Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT500擴散泵機組KT500擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係統專用多弧鍍膜電源+多功能孿生磁環弧靶+柱形弧靶(可選配)
輔助鍍膜係統低溫離子輔助源(除工具鍍外無需加溫係統)
充氣係統質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計
控製方式手動或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa
備注以上設備參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做
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