GSF係列高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機

日期:2016/1/13 10:18:51 人氣:3083
GSF係列高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機

工作原理

GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機的工作原理是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接利用電子束加熱,使膜材中的原子或分子從表麵汽化逸出後入射到基片表麵凝結成膜。電子束蒸發比一般電阻加熱蒸發熱效率高、束流密度大、蒸發速度快,製成的薄膜純度高。

應用範圍

光學鍍膜設備可鍍製層數較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜係鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配置不同的蒸發源、電子槍和離子源及膜厚儀可鍍多種膜係,對金屬、氧化物、化合物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍。

產品特點

1)、高精密光學鍍膜機配備有石英晶體膜厚儀、光學膜厚自動控製係統,采用PLC與工業電腦配合自主研發的PY3100係統聯合實現對整個工作過程的全自動控製,可以實現無人值守,從而提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性。
2)、大抽速真空係統加配深冷裝置,優秀的動態真空能力,為複雜的光學膜係製備提供了必要的真空條件保障。
3)、蒸發分布穩定、性能可靠的E型電子槍,優化設計的蒸發源與工件架之間的位置關係,為精密膜係的實現調工了膜料蒸發分布方麵的保障。
4)、平穩而高速旋轉的工件架轉動係統,使工件架內外圈產品光譜曲線更趨於一致。
5)、適用於光學領域行業,大規模工業生產高端要求的廠商使用。

技術參數表

GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機
型號GSF-800GSF-1200GSF-1400GSF-1600GSFW-1000GSFW-1200GSFW-1600
真空室尺寸 Φ800×1000MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1600×1800MMΦ1000×1100MMΦ1200×1400MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組KT500擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係統電子槍蒸發源、鍍膜輔助離子專用電源或霍爾離子源
充氣係統壓強控製儀
控製方式半自動或全自動
膜厚監控係統石英晶體膜厚監控係統、光學膜厚監控係統
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa
備注以上設備參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做
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